| 摘要 |
본 발명은 터치 센서 제조 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 터치 센서의 전극 형성 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은 투명 필름의 적어도 일면에 ITO 박막층이 형성된 ITO 필름을 제공하는 단계; 상기 ITO 필름의 활성 영역에 ITO 전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 ITO 필름의 비활성 영역에 메탈 배선 전극 패턴에 대응하는 음각 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 ITO 필름의 비활성 영역에 상기 음각 패턴에 대응되는 메탈 배선 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 터치 센서 제조 방법은, 메탈 배선 전극에 대한 직접적인 에칭이 수행되지 않기 때문에 이물질에 의한 쇼트 불량이 저감될 수 있고, 메탈 배선 전극을 음각 방식으로 형성함으로써 투명 필름에 대한 결합력 향상 및 미세 전극 패턴 형성에 유리하다. |
