发明名称 LASER EXPOSURE METHOD AND PRODUCT
摘要 그라비아 제판, 오프셋 제판, 플렉소 제판 등에 있어서 고해상도의 레이저 제판을 실시할 수 있고, 보다 상세하게는, 프린트 기판, 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이 등의 전자 부품에 있어서의 회로 패턴의 레이저 노광이나 지폐 등에 있어서 위조 방지용 특수 인쇄 등에도 이용할 수 있는 고해상도의 레이저 노광 방법 및 그것을 이용해 제조된 제품을 제공한다. 레이저 노광 장치를 이용해서 레이저 빔을 주사시키는 것으로, 해당 감광막에 소정 형상을 가지는 레이저 스폿 열을 형성해서, 판면에 도포된 감광막을 노광해 감광되는 부분과 감광되지 않는 부분을 형성하기 위한 노광 방법이며, 동시에 하는 주사에 대하여, 먼저 주사된 레이저 스폿 열의 폭 방향의 적어도 절반의 영역이 중복 노광되도록 후의 레이저 스폿 열을 주사 해 노광하도록 했다.
申请公布号 KR101648542(B1) 申请公布日期 2016.08.16
申请号 KR20127023486 申请日期 2011.05.23
申请人 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 发明人 시게타, 타츠오;호리우치, 히토시
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01S3/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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