发明名称 |
配合光轴剖光设备使用的托架 |
摘要 |
本实用新型提供一种配合光轴剖光设备使用的托架,包括底座和两个支撑板,支撑板的下端固定于底座上,上端朝向底座的上方延伸,支撑板的上部具有支撑辊,两个支撑辊的轴线相互平行,支撑辊的外壁上具有容置槽,容置槽内具有滚珠,滚珠限位于容置槽内,滚珠的一部分伸出容置槽外部,支撑板上具有螺纹孔,螺纹孔内具有定位螺栓,定位螺栓的一端能与支撑辊抵触,以此将限制支撑辊的转动。本实用新型的有益效果是适于配合剖光机械使用,可将光轴输送至机器内部后随光轴沿周向转动,减少光轴与托架之间的摩擦,避免将光轴表面划伤。 |
申请公布号 |
CN205465721U |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201620219820.4 |
申请日期 |
2016.03.19 |
申请人 |
天津天弘精工传动机械科技股份有限公司 |
发明人 |
于涛 |
分类号 |
B24B41/06(2012.01)I |
主分类号 |
B24B41/06(2012.01)I |
代理机构 |
天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙) 12217 |
代理人 |
王山 |
主权项 |
配合光轴剖光设备使用的托架,其特征在于:包括底座和两个支撑板,所述支撑板的下端固定于所述底座上,上端朝向所述底座的上方延伸,所述支撑板的上部具有支撑辊,两个所述支撑辊的轴线相互平行,所述支撑辊的外壁上具有容置槽,所述容置槽内具有滚珠,所述滚珠限位于所述容置槽内,所述滚珠的一部分伸出所述容置槽外部,所述支撑板上具有螺纹孔,所述螺纹孔内具有定位螺栓,所述定位螺栓的一端能与所述支撑辊抵触,以此将限制所述支撑辊的转动。 |
地址 |
300380 天津市西青区杨柳青工业园勤成路10号 |