涂胶显影机上盖清洗装置

摘要

本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具、多个第一冲洗喷嘴、第二冲洗喷嘴以及多个第三冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和一涂胶显影机上盖设置在所述底板上，所述清洗盘设置在所述清洗盘夹具上方，所述第一冲洗喷嘴设置于清洗盘下方，所述第二冲洗喷嘴设置于清洗盘上方，所述多个第三冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，所述清洗盘具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道。本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置通过第三冲洗喷嘴将溶剂喷入清洗盘的上部清洗通道中，并从清洗盘周侧的喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，提高了清洗范围，减少了清洗所需的时间。

主权项

一种涂胶显影机上盖清洗装置，包括底板、清洗盘、清洗盘夹具、多个第一冲洗喷嘴和第二冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和一涂胶显影机上盖设置在所述底板上，所述清洗盘设置在所述清洗盘夹具上，所述第一冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的下方，所述第二冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，其特征在于，还包括多个第三冲洗喷嘴，所述第三冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，所述清洗盘具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道，所述第一冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述下部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第二冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述中部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第三冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述上部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁。