发明名称 |
pó de si tendo um tamanho de partícula primário médio entre 20nm e 200nm,uso do mesmo, e ,método de fabricação de um pó de si |
摘要 |
"pó de si tendo um tamanho de partícula primário médio entre 20nm,uso do mesmo e ,método de fabricação de um pó de si"um pó á base de si de tamanho submicrônico tendo um tamanho de particula primário médio entre 20nn e 200nn,em que o pó tem uma camada superficial que compreende siox com 0<x<2,sendo quje a camada superficial tem uma espessura média entre0,5 nn e 10nn. e em que o pó tem um teor de oxigênio total igual ou menor que 3% em peso ,em temperatura ambiente.o método para criar o pó compreende uma etapa em que um precurso de si é vaporizado em uma corrente de gás em alta temperatura, após o que a corente de gás e bruscamente resfriada para obter particulas de si,e as partículas de si são bruscamente resfriadas em baixa temperatura em um gás que contém oxigênio. |
申请公布号 |
BR112012033330(A2) |
申请公布日期 |
2016.12.13 |
申请号 |
BR20121133330 |
申请日期 |
2011.06.22 |
申请人 |
UMICORE |
发明人 |
DRIESEN, KRIS;NELIS,DANIEL;PUT, STIJN;SCOYER,JEAN |
分类号 |
C01B33/00;C01B33/02;C01B33/027;C01B33/029;C01B33/03 |
主分类号 |
C01B33/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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