发明名称 pó de si tendo um tamanho de partícula primário médio entre 20nm e 200nm,uso do mesmo, e ,método de fabricação de um pó de si
摘要 "pó de si tendo um tamanho de partícula primário médio entre 20nm,uso do mesmo e ,método de fabricação de um pó de si"um pó á base de si de tamanho submicrônico tendo um tamanho de particula primário médio entre 20nn e 200nn,em que o pó tem uma camada superficial que compreende siox com 0<x<2,sendo quje a camada superficial tem uma espessura média entre0,5 nn e 10nn. e em que o pó tem um teor de oxigênio total igual ou menor que 3% em peso ,em temperatura ambiente.o método para criar o pó compreende uma etapa em que um precurso de si é vaporizado em uma corrente de gás em alta temperatura, após o que a corente de gás e bruscamente resfriada para obter particulas de si,e as partículas de si são bruscamente resfriadas em baixa temperatura em um gás que contém oxigênio.
申请公布号 BR112012033330(A2) 申请公布日期 2016.12.13
申请号 BR20121133330 申请日期 2011.06.22
申请人 UMICORE 发明人 DRIESEN, KRIS;NELIS,DANIEL;PUT, STIJN;SCOYER,JEAN
分类号 C01B33/00;C01B33/02;C01B33/027;C01B33/029;C01B33/03 主分类号 C01B33/00
代理机构 代理人
主权项
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