| 发明名称 | 聚光扩散膜 | ||
| 摘要 | 本创作系有关一种聚光扩散膜结构，其包括一扩散层；涂布于该扩散层中之缓冲树脂层；及该缓冲树脂层上之聚光层。此缓冲树脂层能使扩散出的光之光径增加，使之于达到聚光层后具有更佳之增亮效果。 | ||
| 申请公布号 | TWM331118 | 申请公布日期 | 2008.04.21 |
| 申请号 | TW096212899 | 申请日期 | 2007.08.06 |
| 申请人 | 亚洲化学股份有限公司 | 发明人 | 刘光隆 |
| 分类号 | G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 | |
| 主权项 | 1.一种聚光扩散膜,其包括: 透明基材; 扩散层,系设置于该透明基材之上; 缓冲树脂层,系设置于该扩散层之上;及 聚光层,系设置于该缓冲树脂层之上。 2.如请求项1之聚光扩散膜,其中该透明基材之材质 为PET。 3.如请求项1之聚光扩散膜,其中该缓冲树脂层之材 质为透明树脂,其穿透率大于90%。 4.如请求项3之聚光扩散膜,其中该缓冲树脂层之折 射率范围为0.5至1.5。 5.如请求项3之聚光扩散膜,其中该缓冲树脂层之材 质为三醋酸纤维素。 6.如请求项1之聚光扩散膜,其中该缓冲树脂层之厚 度为80至125 um。 图式简单说明: 图1本创作之聚光扩散膜的结构组成示意图 | ||
| 地址 | 台北市中山区敬业一路97号8楼 | ||