| 主权项 |
一种流体喷射设备，包括：流体歧管，其包括流体供应室和流体返回室；基板，其耦合到所述流体歧管，所述基板限定流动路径，所述流动路径包括用于接收流体的流动路径入口、用于喷射流体液滴的喷嘴以及用于引导走未喷射流体的流动路径出口，所述流体喷射设备的特征在于，还包括流体分配结构，其设置在所述流体歧管与所述基板之间，所述流体分配结构包括：流体供应通道，其包括流体地耦合到所述流体供应室的供应入口和流体地耦合到所述流动路径的供应出口；流体返回通道，其包括流体地耦合到所述流动路径的返回入口和流体地耦合到所述流体返回室的返回出口；以及流体旁路通道，其包括流体地耦合到所述流体供应室的旁路入口和流体地耦合到所述流体返回室的旁路出口，其中：所述流体供应通道、所述流体返回通道以及所述流体旁路通道被布置在同一平面中；所述流体供应通道和所述流体返回通道被交替布置，使得彼此平行且彼此相对；在彼此相对的一对所述流体供应通道和所述流体返回通道中，所述供应出口和其所述返回入口彼此相邻；并且所述流体旁路通道被定位在构成所述一对所述流体供应通道和所述流体返回通道的所述流体供应通道与所述流体返回通道之间，并包括在所述旁路入口与所述旁路出口之间向所述流体旁路通道提供补充流动阻力的流动抑制器，所述流动抑制器包括收敛‑发散式狭道区段，所述收敛‑发散式狭道区段被定位在彼此相邻的所述供应出口与所述返回入口之间。 |
