| 摘要 |
本方法は、炭素熱プロセスおよび／または電熱プロセスにより反応器またはシャフト炉（２）において生成され、かつ反応器またはシャフト炉から高温で離れた後に塵状の固体（４）から物理的分離技術（３）を介して解放され、下流の熱交換器（５）により冷却される塵埃含有合成ガス（１）を浄化するのに供される。長いフィルタ使用可能期間と有効な合成ガス浄化との組み合わせを達成するために、塵埃含有合成ガス（１）が、反応器（２）を離れた後で、かつ塵状の固体から解放される前に、蒸気の存在下で、滞留セクション（６）を通され、塵状の固体から解放され冷却された後の合成ガスの最終ガス温度（Ｔ３）と滞留セクションでの最高ガス温度（Ｔ２）との差が少なくとも４００Ｋに設定されることが提案される。 |
