发明名称 |
平面磁控溅射源 |
摘要 |
本实用新型提供了一种平面磁控溅射源。有吊挂组件,阴极屏蔽罩,置于阴极屏蔽罩中的阴极体,电极引入组件,悬挂式阳极组件。结构合理,散热性和密封性能好,稳定性好,在高电压下有良好的安全可靠性。 |
申请公布号 |
CN2241698Y |
申请公布日期 |
1996.12.04 |
申请号 |
CN96206868.3 |
申请日期 |
1996.03.08 |
申请人 |
甘国工 |
发明人 |
韩进才;余明心;甘国工;徐予明 |
分类号 |
C23C14/35 |
主分类号 |
C23C14/35 |
代理机构 |
四川省专利服务中心 |
代理人 |
江晓萍 |
主权项 |
1、平面磁控溅射源,其特征在于所述的溅射源中有吊挂组件,含主板、侧板、水冷通道(9)的阴极屏蔽罩,置于阴极屏蔽罩中的阴极体,含水冷通道(30)和阴极电源引入组件的电极引入组件,含阳极主板的悬挂式阳极组件,阴极体中有含环式轨道槽的基体,置于环式轨道槽中的可产生溅射磁场的磁体,置于磁体上的导磁组件,位于磁体轨道槽开口面处的复盖阴极基体面的金属密封板,位于金属密封板非密封面上的与金属密封板连接的溅射工作体,基体轨道槽和金属密封板间形成的阴极水冷通道(25),吊挂组件中有置于真空溅射室开口处上的吊挂板,位于吊挂板上部的加强筋,与加强筋连接的顶盖板,吊挂板下部有由数个密封联接件和数块组合件组成的将阴极屏蔽罩和阴极体连接且连接在吊挂板上的吊挂机构,加强筋和顶盖板间形成了水冷、电极引入空间。 |
地址 |
610041四川省成都市棕北小区秀苑13幢2单元12号 |