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Eine Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie weist mehrere Steuerelektroden auf, die relativ zur Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden zum Steuern des Elektronenstrahls durch Anlegen von Spannungen ausgebildet sind, wobei mehrere Erdungselektroden vorgesehen sind, die entsprechend jeder Steuerelektrode angeordnet sind, und ist durch mehrere Formsubstrate gekennzeichnet, die relativ zur Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass sie Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden und der mehreren Erdungselektroden zugewandt sind, die jeweils an den mehreren Formsubstraten angeordnet sind. Die Ablenkvorrichtung kann das Erzeugen von Übersprechen bei verbesserter Genauigkeit des Steuerns eines Elektronenstrahls verhindern.
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