发明名称 |
图像投影装置和方法 |
摘要 |
本发明提供一种图像投影装置和方法。该装置包括:一光源系统,可操作地产生一光束,以投射至由SLM像素装置所形成的空间光调制器(SLM)单元的有源表面上;以及一个设置在SLM单元输出侧的放大光学器件。投射至SLM像素装置上的光束具有一个预定的横截面,其与所述有源表面的大小相对应。该SLM单元包括第一和第二透镜阵列,分别位于像素装置的两相对侧,使得第一阵列中的每个透镜和在第二阵列中的相应的相对透镜与SLM像素中的一个对应像素相关联。 |
申请公布号 |
CN1298175C |
申请公布日期 |
2007.01.31 |
申请号 |
CN02815709.5 |
申请日期 |
2002.07.08 |
申请人 |
以克斯普雷有限公司 |
发明人 |
尤瓦尔·卡佩尔纳;莎伦·卡佩尔纳;伊扎克·波梅兰茨;泽夫·扎莱夫斯基;埃兰·沙博 |
分类号 |
H04N9/31(2006.01) |
主分类号 |
H04N9/31(2006.01) |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
李辉 |
主权项 |
1.一种图像投影装置(1),包括:空间光调制像素装置(5),其具有一包括多个像素的有源表面;第一和第二透镜阵列(10,14),位于所述空间光调制像素装置(5)的相对两侧,以使第一阵列中的每个透镜和第二阵列中的对应的相对透镜与所述多个像素中的一个对应像素相关联;一个光源系统,可操作地产生一个入射光束,所述入射光束的预定横截面对应于所述有源表面的大小;以及一放大光学器件(22),设置在空间光调制像素装置的输出侧;该装置的特征在于:所述第一和第二透镜阵列与所述空间光调制像素装置集成在一起,并位于空间光调制像素装置的相对两侧,与空间光调制像素装置共同形成一个公共空间光调制单元(12),所述第一和第二透镜阵列中的每个阵列与像素装置的相应表面间隔一预定的距离,或者与所述相应表面物理接触,所述第一和第二透镜阵列分别以聚合物隔块(P1,P2)的方式实现,设置在所述空间光调制像素装置的两侧相对表面上。 |
地址 |
以色列巴特亚姆 |