| 摘要 |
본 발명은 슬림형 플라즈마 고도수처리 장치에 관한 것으로, 처리대상수가 통과하는 제1 소통로(11A)가 형성되어 있는 내부관(11)과, 내부관(11)에 외포되어서 라디칼 반응용 기체가 통과하는 제2 소통로(12A)가 형성되어 있는 외부관(12)과, 제1, 2 소통로(11A, 12A)에 각각 배열된 제1,2 전극(21, 22)과 상기 제1,2 전극(21, 22)과 연결된 플라즈마 전원부를 포함하는 플라즈마 발생수단과, 내부관(11)과 외부관(12)의 양단을 막고 있는 한 쌍의 캡(13)과, 제1 소통로(11A)와 연통되고 처리대상수가 유입되는 제1 유입구(11b)와, 제1 유입구(11b)로 유입되어서 상기 제1 소통로(11A)를 통과한 처리대상수가 빠져나가는 제1 유출구(11c)와, 라디칼 반응용 기체를 제공하는 기체공급원(AS)과 연결된 제2 유입구(12b)와, 제2 유입구(12b)로 유입된 라디칼 반응용 기체가 플라즈마 방전에 의해서 생성된 라디칼 발생원이 토출되는 제2 유출구(12c)를 포함하여 구성되는 플라즈마 고도수처리 장치에 있어서, 내부관(11)과 외부관(12)은 2 ~ 10 mm의 간격을 유지하고 있는 것을 특징으로 하고, 이에 의하면 오존의 수율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. |
