抗污涂层涂布设备

摘要

一种抗污涂层的涂布设备，包含上料站、多个真空腔室及常压涂布站。上料站用以承载并传送载盘与其上的工件。真空腔室包含降压腔室、等离子体辅助化学气相沉积腔室及升压腔室。降压腔室与上料站串接。降压腔室用以接收来自上料站的载盘与工件，且将腔室压力降至真空。等离子体辅助化学气相沉积腔室用以接收来自降压腔室的载盘与工件、及在工件上形成中间层。升压腔室用以接收来自等离子体辅助化学气相沉积腔室的载盘与工件，及将腔室压力提升至真空腔室外的压力。常压涂布站用以接收来自升压腔室的载盘与工件、及在中间层上形成抗污涂层。涂布设备形成均匀中间层及具类水草结构的单分子抗污涂层，故抗污涂层具高均匀度、无膜层应力问题及手指滑度触感佳的优点。

主权项

一种抗污涂层涂布设备，适用以在一载盘上的至少一工件镀覆一抗污涂层，其特征在于该抗污涂层涂布设备包含：一上料站，配置以承载并传送该载盘与位于该载盘上的该至少一工件；多个真空腔室，所述多个真空腔室彼此串接，其中所述多个真空腔室包含：一降压腔室，与该上料站串接，其中该降压腔室配置以接收来自该上料站的该载盘与该至少一工件、以及将该降压腔室的一腔室压力降至真空；一等离子体辅助化学气相沉积腔室，配置以接收来自该降压腔室的该载盘与该至少一工件、以及在该至少一工件上形成一中间层；以及一升压腔室，配置以接收来自该等离子体辅助化学气相沉积腔室的该载盘与该至少一工件、以及将该升压腔室的一腔室压力提升至所述多个真空腔室外的压力；以及一常压涂布站，其中该常压涂布站配置以接收来自该升压腔室的该载盘与该至少一工件、以及于该至少一工件上的该中间层上形成一抗污涂层。