| 发明名称 |
Chemical vapor deposition of metal oxide films from reaction product precursors |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US5258204(A) |
申请公布日期 |
1993.11.02 |
| 申请号 |
US19920900283 |
申请日期 |
1992.06.18 |
| 申请人 |
EASTMAN KODAK COMPANY |
发明人 |
WERNBERG, ALEX A.;GYSLING, HENRY J. |
| 分类号 |
C23C16/40;C30B25/02;(IPC1-7):C23C16/00;B05D5/12 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
