发明名称 为模内装饰形成图案化薄膜结构的方法
摘要 本发明披露了一种在基片或模内装饰膜上形成图案化薄膜结构的方法。图案是用诸如遮蔽涂料或油墨这样的材料印刷在基片上的,该图案是这样的,在一个具体实施例中,所需要的结构将在印刷材料不存在的区域形成,即,印刷所要形成的薄膜结构的负像。在另一个具体实施例中,该图案是用难以从基片剥离的材料进行印刷,而所需要的薄膜结构将在印刷材料存在的区域形成,即,印刷薄膜结构的正像。在图案化结构上沉积薄膜材料,然后剥离不需要的区域,从而留下图案化薄膜结构。
申请公布号 CN1597333A 申请公布日期 2005.03.23
申请号 CN200410048743.2 申请日期 2004.06.15
申请人 希毕克斯影像有限公司 发明人 赵一雄;张小加;史恩·奇拉克;曾金仁;臧宏玫;梁荣昌
分类号 B41M1/30 主分类号 B41M1/30
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 余刚;彭焱
主权项 1.一种在基片上形成图案化薄膜结构的方法,包括以下步骤:利用包括按重量计算5-80%的可再分散性颗粒的可剥离材料在所述基片上印刷图案,所述印刷的可剥离材料在所述基片上限定所述薄膜结构要形成的区域,其是通过包括使用所述薄膜材料在所述基片上要形成的装饰设计的负像,以致所述印刷的可剥离材料存在于所述基片上的所述薄膜结构未形成的区域而所述印刷的可剥离材料基本上不存在于所述基片上的所述薄膜结构要形成的区域;在所述图案化结构上沉积材料的薄膜;以及从所述基片剥离所述可剥离材料;由此所述可剥离材料和在其上形成的任何薄膜材料通过所述剥离而被除去,留下以所述装饰设计的形状在所述基片上形成的所述薄膜结构;以及其中所述基片和在其上形成的所述图案化薄膜设计适合于用作模内装饰(IMD)装饰膜。
地址 美国加利福尼亚州