Method for multilayer CVD processing in a single chamber,申请号EP19930310555-传众专利搜索

发明名称	Method for multilayer CVD processing in a single chamber
摘要
申请公布号	EP0608633(B1)	申请公布日期	1999.03.03
申请号	EP19930310555	申请日期	1993.12.24
申请人	APPLIED MATERIALS, INC.	发明人	LAW, KAM S.;ROBERTSON, ROBERT;LOU, PAMELA;KOLLRACK, MARC MICHAEL;LEE, ANGELA;MAYDAN, DAN
分类号	H01L21/205;C23C16/24;C23C16/34;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/31;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):C23C16/44;H01L21/84	主分类号	H01L21/205
代理机构		代理人
主权项
地址