发明名称 |
有源矩阵显示器 |
摘要 |
一种高产率制造高性能的可靠的半导体器件的低温方法,包括:以TEOS作为原材料,在氧、臭氧或氧化氮气氛中,在设于绝缘衬底上的半导体涂层上,通过化学汽相淀积形成氧化硅薄膜作为栅绝缘膜;并用脉冲激光束或强光辐照,以除去诸如碳或烃基团,从而消除氧化硅薄膜中的捕获中心。另一种方法包括将氮离子注入氧化硅薄膜中然后用红外光使薄膜退火,从而获得作为栅绝缘膜的氮氧化硅膜,此膜结构致密、介电常数高和耐压得到改善。 |
申请公布号 |
CN100465742C |
申请公布日期 |
2009.03.04 |
申请号 |
CN200510004153.4 |
申请日期 |
1993.08.27 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;张宏勇 |
分类号 |
G02F1/136(2006.01);H01L29/786(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/136(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘杰 |
主权项 |
1.一种显示器件,它包括:包括源区和漏区的薄膜晶体管,其中所述源区和漏区中的每一个都包括硅;电连接于所述源区和漏区中的一个的多层膜,其中所述多层膜包括铬层以及形成在所述铬层上的铝层;像素电极,经所述多层膜电连接于所述源区和漏区中的所述一个。 |
地址 |
日本神奈川县 |