| 摘要 |
효율적이며 균일성이 뛰어난 장척의 열 플라스마를 발생시키는 것이 가능하며, 또한 정전 데미지를 억제할 수 있는 플라스마 처리 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 유도 결합형 플라스마 토치 유닛(T)에 대향하며, 박막(2)이 형성된 기재(1)가 배치된다. 코일(3)이, 제 1 세라믹스 블록(4) 및 제 2 세라믹스 블록(5)의 근방에 배치된다. 코일(3)이 발생하는 고주파 전자계는 실드판(13)에 의해서 효과적으로 차폐되기 때문에, 기재(1) 근방의 고주파 전자계가 상당히 약해지므로, 정전 데미지가 거의 생기지 않는다. |
