| 发明名称 |
Electrostatic chuck for a substrate in a process chamber |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0693771(B1) |
申请公布日期 |
1997.12.03 |
| 申请号 |
EP19950304778 |
申请日期 |
1995.07.07 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
SHAMOUILIAN, SHAMOUIL;CAMERON, JOHN F. |
| 分类号 |
H02N13/00;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
H02N13/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
