| 发明名称 |
Process for producing semiconductor substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU5969698(A) |
申请公布日期 |
1998.10.01 |
| 申请号 |
AU19980059696 |
申请日期 |
1998.03.27 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
YUKIKO IWASAKI;KATSUMI NAKAGAWA;TAKAO YONEHARA;SHOJI NISHIDA;KIYOFUMI SAKAGUCHI |
| 分类号 |
H01L27/12;H01L21/02;H01L21/20 |
主分类号 |
H01L27/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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