| 摘要 |
플라즈마 처리 챔버 내에서의 에칭 프로세스에서 방위 방향 불균일을 제어하기 위한 장치, 시스템 및 방법이 제공된다. 일 실시예에서, 플라즈마 처리 장치는 플라즈마 처리 챔버 및 플라즈마 처리 챔버 위로 배치된 RF 케이지를 포함할 수 있다. 유전 윈도우(dielectric window)는 플라즈마 처리 챔버와 RF 케이지를 분리할 수 있다. 장치는 유전 윈도우 위로 배치된 플라즈마 생성 코일을 포함할 수 있다. 플라즈마 생성 코일은 전기를 공급받을 때 플라즈마 처리 챔버 내에 유도 결합 플라즈마를 생성하도록 동작 가능할 수 있다. 장치는 플라즈마 생성 코일의 적어도 일부에 근접하게 RF 케이지 내에 배치된 도전성 표면을 더 포함한다. 도전성 표면은 플라즈마 생성 코일이 전기를 공급받을 때 도전성 표면과 플라즈마 생성 코일 사이에 방위 방향으로 가변하는 유도 결합(azimuthally variable inductive coupling)을 생성하도록 배치된다. |
