| 发明名称 |
PREPARATION METHOD OF TUNGSTEN SPUTTERING TARGET AND THE THNGSTEN SPUTTERING TARGET PREPARED THEREBY |
| 摘要 |
본 발명은 텅스텐 스퍼터링 타겟의 제조방법 및 이에 의해 제조된 텅스텐 스퍼터링 타겟에 대한 것으로, 상기 방법은 비구형 텅스텐 분말을 열플라즈마 처리하여 구형 텅스텐 분말을 형성하는 단계; 상기 구형 텅스텐 분말을 성형하여 성형체를 형성하는 단계; 상기 성형체를 진공 분위기하에서 열처리하여 제1 소결체를 형성하는 단계; 및 상기 제1 소결체를 열간 정수압 소결하는 단계를 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160123134(A) |
申请公布日期 |
2016.10.25 |
| 申请号 |
KR20150053293 |
申请日期 |
2015.04.15 |
| 申请人 |
HEE SUNG METAL LTD. |
发明人 |
KIM, DONG WOOK;HONG, GIL SOO;YANG, SEUNG HO;YOON, WON KYU |
| 分类号 |
C23C14/34;B22F3/14 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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