发明名称 | 一种化学增强型正光刻胶组合物 | ||
摘要 | 一种化学增强型正光刻胶组合物在与基质的粘合性能方面优良,并在光刻胶性能方面优良,并适于使用KrF受激准分子激光曝光机、ArF激光曝光机等曝光,含一种具有一种2-烷基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯聚合单元,和一种单体选自3-羟基-1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯腈的聚合单元的树脂,以及有一种酸发生剂。 | ||
申请公布号 | CN1190706C | 申请公布日期 | 2005.02.23 |
申请号 | CN99111698.4 | 申请日期 | 1999.08.24 |
申请人 | 住友化学工业株式会社 | 发明人 | 藤岛浩晃;上谷保则;荒木香 |
分类号 | G03F7/039;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/039 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 严舫 |
主权项 | 1.一种化学增强型正光刻胶组合物,包括以组合物总固体组分重量计为80-99.9%重量的树脂(1),所述树脂具有占树脂(1)的30-80摩尔%的下式(I)表示的聚合单元:<img file="C991116980002C1.GIF" wi="806" he="574" />其中,R<sup>1</sup>代表氢或甲基,R<sup>2</sup>代表烷基,以及占树脂(1)的20-70摩尔%的3-羟基-1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯的聚合单元;和以组合物总固体组分重量计为0.1-20%重量的酸发生剂。 | ||
地址 | 日本大阪府 |