发明名称 活动式可调整足底高低的矫正装置
摘要 本实用新型为一种活动式可调整足底高低的矫正装置,其为由单个或多个多种厚度的矫正块与踩踏元件相互结合组成,可配合不同的足形,将矫正块的厚度与位置予以改变,也就是说穿著者可依照自己的足形,选择适合自己的矫正块,进而改变足部运动力学,使下肢运动趋于理想。
申请公布号 CN2707063Y 申请公布日期 2005.07.06
申请号 CN200420077504.5 申请日期 2004.07.07
申请人 马南铃;曾赞育;宋清辉 发明人 马南铃;曾赞育;宋清辉
分类号 A43B7/14 主分类号 A43B7/14
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 程伟;王初
主权项 1.一种活动式可调整足底高低的矫正装置,其特征在于,包括有踩踏元件与多块矫正块;其中,踩踏元件的一面的两端形成有脚掌区与脚跟区,矫正块分别设置于脚掌区与脚跟区。
地址 台湾省台北市