发明名称 |
Polishing Pad Window |
摘要 |
연마 패드는 반도체 기판, 광학적 기판 및 자성 기판 중의 적어도 하나를 연마 또는 평탄화하기에 적합하다. 상기 연마 패드는 연마 표면, 상기 연마 패드를 관통하는 개구 및 상기 연마 패드의 개구 내의 투명창을 갖는다. 상기 투명창은 상기 연마 패드의 사용에 따라 증가하는 깊이를 갖는 오목한 표면을 갖는다. 신호 영역은 잔해 제거를 촉진하기 위해 중앙 영역 내로 하방으로 기울어지고 잔해 배출 홈은 중앙 영역을 통해 연마 패드 내로 연장된다. 상기 연마 패드를 상기 잔해 배출 홈의 연마 유체로 회전시키는 것은 잔해를 상기 잔해 배출 홈을 통해 상기 중앙 영역으로부터 상기 연마 패드로 보내게 한다. |
申请公布号 |
KR20160115789(A) |
申请公布日期 |
2016.10.06 |
申请号 |
KR20160035191 |
申请日期 |
2016.03.24 |
申请人 |
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC;ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. |
发明人 |
BAINIAN QIAN;ETHAN SCOTT SIMON;GEORGE C. JACOB |
分类号 |
H01L21/304;B24B37/20;B24B37/26;H01L21/306;H01L21/461;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|