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经营范围
发明名称
Dry etching method for semiconductor
摘要
申请公布号
EP0459469(B1)
申请公布日期
1997.03.19
申请号
EP19910108833
申请日期
1991.05.29
申请人
TOYODA GOSEI CO., LTD.;KABUSHIKI KAISHA TOYOTA CHUO KENKYUSHO
发明人
KOTAKI, MASAHIRO;MANABE, KATSUHIDE;MORI, MASAKI;HASHIMOTO, MASAFUMI
分类号
H01L21/302;H01L21/285;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/308;H01L33/12;H01L33/32;H01L33/40;(IPC1-7):H01L21/306;H01L33/00
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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