PROCESS FOR FORMING PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING DOUBLE EXPOSURE,申请号KR20070115648-传众专利搜索

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发明名称	PROCESS FOR FORMING PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING DOUBLE EXPOSURE
摘要
申请公布号	KR20090049407(A)	申请公布日期	2009.05.18
申请号	KR20070115648	申请日期	2007.11.13
申请人	HYNIX SEMICONDUCTOR INC.	发明人	KIM, JIN SOO
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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