| 摘要 |
특히 마이크로리소그래피를 위해, 광학 영상화 장치에 사용되는 광학 영상화 장치 모듈(117.1)이 제공되고, 광학 요소 지지 서브구조체(118.1), 및 보조 지지 서브구조체(119.1)를 포함한다. 광학 요소 지지 서브구조체는 광학 요소(106.2)를 지지하도록 구성되고 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖는다. 광학 요소는 노광광을 사용하는 노광 프로세스에서, 마스크의 패턴의 화상을 기판 상에 전사하도록 구성된 광학 영상화 장치의 광학 요소의 그룹의 부분을 형성하도록 구성된다. 보조 지지 서브구조체(119.1)는 보조 구성요소(115)를 지지하도록 구성되고 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치를 갖고, 보조 구성요소는 노광 프로세스 중에, 기판 상의 패턴의 화상의 전사 이외의 노광 프로세스의 보조 기능을 실행하도록 구성된다. 보조 구성요소(115)는 노광 프로세스 중에, 광학 요소에 공간적으로 연계되고, 광학 요소 지지 서브구조체(118.1)로부터 기계적으로 분리된 방식으로 보조 지지 서브구조체(119.1)를 포함하는 보조 지지 구조체에 의해 지지되도록 구성된다. 제1 일시적인 지지 인터페이스 장치 및 제2 일시적인 지지 인터페이스 장치는 적어도 광학 영상화 장치의 조립 중에 광학 요소 지지 서브구조체(118.1)를 거쳐 보조 지지 서브구조체(119.1)를 일시적으로 지지하도록 구성된 적어도 하나의 일시적인 연결 디바이스(121)와 해제 가능하게 협동하도록 구성된다. |
