发明名称 PLATING APPARATUS PLATING METHOD AND STORAGE MEDIUM
摘要 도금액을 효율적으로 가열하는 도금 처리 방법을 제공한다. 도금 처리 장치(20)는, 기판(2)을 회전 보지하는 기판 회전 보지 기구(110)와, 기판(2)으로 도금액(35)을 공급하는 도금액 공급 기구(30)를 구비하고 있다. 이 중 도금액 공급 기구(30)는, 기판(2)으로 공급되는 도금액(35)을 저류하는 공급 탱크(31)와, 도금액(35)을 기판(2)에 토출하는 토출 노즐(32)과, 공급 탱크(31)의 도금액(35)을 토출 노즐(32)로 공급하는 도금액 공급관(33)을 가지고 있다. 또한, 도금액 공급 기구(30)의 공급 탱크(31) 또는 도금액 공급관(33) 중 적어도 어느 일방에, 도금액(35)을 제 1 온도로 가열하는 제 1 가열 기구(50)가 장착되어 있다. 또한, 제 1 가열 기구(50)보다 토출 노즐(32)측에서, 도금액 공급관(33)에, 도금액(35)을 제 1 온도보다 고온인 제 2 온도로 가열하는 제 2 가열 기구(60)가 장착되어 있다.
申请公布号 KR101639633(B1) 申请公布日期 2016.07.14
申请号 KR20137019573 申请日期 2012.01.13
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 타나까 타카시;사이토 유스케;이와시타 미츠아키;토시마 타카유키
分类号 C23C18/31 主分类号 C23C18/31
代理机构 代理人
主权项
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