发明名称 AN PLASMA GENERATING MODULE AND PLASMA PROCESSINGAPPARATUS COMPRISING THE SAME
摘要 본 발명은 안테나 및 안테나와 직렬로 연결되어 임피던스를 가변시켜 안테나의 출력을 제어할 수 있도록 구성되는 공진커패시터를 포함하여 구성되며, 각각 병렬로 연결되는 복수의 안테나부, 복수의 안테나부에 고주파 전력을 공급하는 고주파 전원, 안테나부와 병렬로 연결되며, 임피던스를 가변시켜 안테나부의 출력을 변화시킬 수 있도록, 적어도 하나 이상의 가변 소자를 포함하여 구성되는 복수의 공진출력제어부, 안테나부와 병렬로 연결되며, 적어도 하나 이상 구비되는 보상 회로, 전원부로부터 RF전력이 인가되고, 복수의 안테나부와 연결되어 RF전력을 전달하며, 적어도 하나 이상의 폐루프가 형성되는 도체부재로 구성되는 커먼부를 포함하여 구성되는 플라즈마 발생모듈 및 플라즈마 발생장치를 제공한다.본 발명에 의할 경우, 각각의 안테나에 공진출력제어부가 구비되어 각각의 안테나를 정밀하게 제어할 수 있다.또한, 안테나에 별도의 보상 회로가 구비되어 안테나의 개별 제어에 따라 인접한 안테나에 미치는 영향을 최소화 할 수 있다.추가적으로 커먼부가 구비되어, 각 안테나부의 개별제어시 안정적으로 제어할 수 있고, 복수의 안테나 각각에 분배되는 RF파워를 균일하게 인가할 수 있는 효과가 있다.
申请公布号 KR101682881(B1) 申请公布日期 2016.12.06
申请号 KR20140173705 申请日期 2014.12.05
申请人 인베니아 주식회사 发明人 홍성재
分类号 H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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