发明名称 |
微影系统及其制程 |
摘要 |
本发明是关于一种微影系统及其制程,该微影制程,其包括:接收具有感光层的基底;提供能够使所述感光层的一部分曝光的光源;和提供能够定义要转移到感光层的至少一个图案的光罩。具体地说,基底在感光层上或上方具有上表面,且光罩在其第一表面处接收来自光源的电磁波,并从其第二表面产生多个电磁成分。微影制程还可包括:提供透镜,其在透镜的下表面处提供平整表面,用于将图案转移到感光层;和调节透镜的平整表面与基底的上表面之间的距离,以控制投射到感光层上的电磁成分的数目和量。 |
申请公布号 |
CN101086624A |
申请公布日期 |
2007.12.12 |
申请号 |
CN200610127750.0 |
申请日期 |
2006.09.01 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
吴宗显;杨大弘;卢志远 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
1、一种微影制程,其特征在于其包括:接收具有一感光层的一基底;提供一光源,能够使该感光层的一部分曝光;提供一光罩,能够定义出要转移到该感光层的至少一个图案,其中该光罩在其第一表面处接收来自所述光源的电磁波,且从其第二表面产生多个电磁成分;提供一透镜,用于将该图案转移到该感光层,且该透镜在其下表面处提供平整表面;以及调节该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离,以控制投射到该感光层上的该些电磁成分的数目和量。 |
地址 |
中国台湾新竹县科学工业园区力行路16号 |