发明名称 微影系统及其制程
摘要 本发明是关于一种微影系统及其制程,该微影制程,其包括:接收具有感光层的基底;提供能够使所述感光层的一部分曝光的光源;和提供能够定义要转移到感光层的至少一个图案的光罩。具体地说,基底在感光层上或上方具有上表面,且光罩在其第一表面处接收来自光源的电磁波,并从其第二表面产生多个电磁成分。微影制程还可包括:提供透镜,其在透镜的下表面处提供平整表面,用于将图案转移到感光层;和调节透镜的平整表面与基底的上表面之间的距离,以控制投射到感光层上的电磁成分的数目和量。
申请公布号 CN101086624A 申请公布日期 2007.12.12
申请号 CN200610127750.0 申请日期 2006.09.01
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 吴宗显;杨大弘;卢志远
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿宁;张华辉
主权项 1、一种微影制程,其特征在于其包括:接收具有一感光层的一基底;提供一光源,能够使该感光层的一部分曝光;提供一光罩,能够定义出要转移到该感光层的至少一个图案,其中该光罩在其第一表面处接收来自所述光源的电磁波,且从其第二表面产生多个电磁成分;提供一透镜,用于将该图案转移到该感光层,且该透镜在其下表面处提供平整表面;以及调节该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离,以控制投射到该感光层上的该些电磁成分的数目和量。
地址 中国台湾新竹县科学工业园区力行路16号