发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF DEPOSITING A FILM
摘要 회전 테이블(2)의 하방측에서 개질 영역(S1)에 대향하는 위치에 바이어스 전극(120)을 배치함과 함께, 개질 영역(S1)의 상방측에 패러데이 실드(95)를 배치하고, 이들 바이어스 전극(120)과 패러데이 실드(95)를 용량 결합시켜 상기 개질 영역(S1)에 바이어스 전계를 형성한다. 그리고, 바이어스 전극(120)에 대해서, 회전 테이블(2)의 회전 방향에서의 폭 치수(t)가 서로 인접하는 웨이퍼(W)끼리의 이격 치수(d)보다도 작게 되도록 형성하여, 서로 인접하는 웨이퍼(W)에 대해 동시에 바이어스 전계가 가해지는 것을 방지하면서, 각 웨이퍼(W)에 대해 개별로 바이어스 전계를 형성한다.
申请公布号 KR101654968(B1) 申请公布日期 2016.09.06
申请号 KR20140013114 申请日期 2014.02.05
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 야마와쿠 준;고시미즈 치시오;다치바나 미츠히로;가토 히토시;고바야시 다케시;미우라 시게히로;기무라 다카후미
分类号 C23C16/455;H01J37/32;H01L21/687 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
地址