发明名称 MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM WRITING METHOD
摘要 본 발명의 일 태양의 멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 멀티 하전 입자빔을 이용하여 k(k는 2 이상의 정수) 패스 이상의 다중 묘화를 행하는 경우에서의 빔의 조사 위치마다 n(n은 2 이상의 정수) 비트로 정의된 k 패스분의 제1 조사 시간 데이터를 입력하고, k 패스분의 제1 조사 시간 데이터를 미리 설정된 합계가 n 비트가 되는 상이한 비트 수의 k 개의 제2 조사 시간 데이터로 분할하는 분할부와, k 개의 제2 조사 시간 데이터에 사용되는 비트 수에 기초하여 정해지는 k 개의 분해능 정보를 기억하는 기억 장치와, k 패스의 패스마다, 멀티 하전 입자빔의 상기 빔용의 k 개의 제2 조사 시간 데이터 중 대응하는 제2 조사 시간 데이터를 전송하는 데이터 전송 처리부와, k 패스의 패스마다, k 개의 분해능 정보 중 대응하는 분해능 정보를 전송하는 분해능 정보 전송 처리부와, k 패스의 패스마다, 전송된 제2 조사 시간 데이터와 분해능 정보를 입력하고, 입력된 분해능 정보와 제2 조사 시간 데이터를 이용하여 상기 패스에서의 멀티 하전 입자빔의 대응빔의 조사 시간을 연산하는 조사 시간 연산부를 구비한 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR20160115796(A) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20160035272 申请日期 2016.03.24
申请人 NUFLARE TECHNOLOGY INC. 发明人 INOUE HIDEO
分类号 G03F1/20;G03F1/86;G03F7/20 主分类号 G03F1/20
代理机构 代理人
主权项
地址