发明名称 POLYMER FOR RESIST UNDER LAYER FILM COMPOSITION RESIST UNDER LAYER FILM COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
摘要 본 발명의 목적은, 양호한 알칼리성 과산화수소수 내성, 우수한 매립/평탄화 특성 및 우수한 드라이 에칭 특성을 갖는 레지스트 하층막을 형성할 수 있는 레지스트 하층막 재료용 중합체를 제공하는 것이다. 상기 목적은, 하기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 및 하기 일반식 (3)으로 표시되는 반복 단위를 함유하는 레지스트 하층막 재료용 중합체에 의해 달성된다:(식에서, R은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이다. R는 하기 식 (1-1)~(1-3)에서 선택되는 기이다. R은 포화 또는 불포화의 탄소수 4~20의 3급 알킬기이고, 산소 작용기를 포함하고 있어도 좋다. A는 단결합, 또는 에스테르기를 함유하는 탄소수 2~10의 2가의 연결기이다.)(식에서, 파선은 결합수를 나타낸다.)
申请公布号 KR20160115817(A) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20160035718 申请日期 2016.03.25
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 KIKUCHI RIE;WATANABE TAKERU;TACHIBANA SEIICHIRO;OGIHARA TSUTOMU
分类号 G03F7/004;C08F220/10;C11D1/72;G03F7/105 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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