| 摘要 |
Mikrokammerlaserverarbeitungssysteme und Verfahren, die eine lokalisierte Prozessgasatmosphäre verwenden, werden offenbart. Das Verfahren umfasst das Verarbeiten eines Substrats mit einer Fläche durch Bereitstellen eines Prozessgases an einen zentralen Bereich der Mikrokammer, der die Oberfläche des Substrats umfasst, und Bereitstellen eines Vorhanggases an einen peripheren Bereich der Kammer, der die Oberfläche des Substrats umfasst. Das Verfahren umfasst ebenfalls das Bereitstellen eines Vakuums an einen Bereich der Kammer zwischen dem zentralen und dem peripheren Bereich der Kammer, wobei das Vakuum das Prozessgas und das Vorhanggas entfernt, wodurch eine lokalisierte Prozessgasatmosphäre an der Oberfläche des Substrats im zentralen Bereich der Kammer gebildet wird, sowie ein Gasvorhang des Vorhanggases im peripheren Bereich der Kammer. Das Verfahren umfasst ebenfalls das Bestrahlen der Oberfläche des Substrats durch die lokalisierte Prozessgasatmosphäre mit einem Laserstrahl, der eine Laserlinie bildet, um einen Laserprozess auf der Oberfläche des Substrats durchzuführen. |
