| 发明名称 | 包括具有减少响应时间的可变形膜的光学设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光学设备(100)，该光学设备包括：‑可变形膜(1)，‑支撑件(2)，所述膜(1)的周边锚定区域(1c)连接到该支撑件(2)，‑腔，该腔填充有恒定体积的流体(3)，所述腔由膜(1)、基本上平行于膜(1)延伸的基部(20,200)以及支撑件(2)的在基部(20)和膜(1)之间延伸的壁(21)界定，‑膜(1)的区域(1a)的致动设备(4)，该膜(1)的区域(1a)位于膜(1)的周边锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间，该致动设备(4)被配置为通过施加电致动电压而弯曲，以便移动位于所谓流动区域(30)的区域中的一些体积的流体，该流动区域位于膜(1)的致动区域和腔的基部(20)之间，所述光学设备(100)的特征在于，该光学设备包括加热元件(5)，该加热元件适于局部加热流动区域(30)中和/或腔的面向膜的中心部分(1b)的区域中的流体。 | ||
| 申请公布号 | CN106170719A | 申请公布日期 | 2016.11.30 |
| 申请号 | CN201580011268.8 | 申请日期 | 2015.03.20 |
| 申请人 | 韦伯斯特资本有限责任公司 | 发明人 | S·博里斯 |
| 分类号 | G02B3/14(2006.01)I;G02B3/12(2006.01)I | 主分类号 | G02B3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 袁玥 |
| 主权项 | 一种光学设备(100)，包括：‑可变形膜(1)，‑支撑件(2)，所述膜(1)的周边锚定区域(1c)连接到所述支撑件(2)，‑腔，所述腔填充有恒定体积的流体(3)，所述腔由所述膜(1)、基本上平行于所述膜(1)延伸的基部(20,200)以及所述支撑件(2)的在所述基部(20)和所述膜(1)之间延伸的壁(21)界定，‑所述膜(1)的区域(1a)的致动设备(4)，所述膜(1)的区域(1a)位于所述膜(1)的所述周边锚定区域(1c)和中心部分(1b)之间，所述致动设备(4)被配置为通过施加电致动电压而弯曲，以便移动位于被称为流动区域(30)的区域中的一些所述体积的流体，所述流动区域位于所述膜(1)的致动区域和所述腔的所述基部(20)之间，所述光学设备(100)的特征在于，所述光学设备包括加热元件(5)，所述加热元件适于局部加热所述流动区域(30)中和/或所述腔的面向所述膜的所述中心部分(1b)的区域中的流体。 | ||
| 地址 | 美国特拉华 | ||