| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR HEAT TREATMENT OF SILICON OXIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0855847(A) |
申请公布日期 |
1996.02.27 |
| 申请号 |
JP19940212032 |
申请日期 |
1994.08.11 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD |
发明人 |
YAMAZAKI SHUNPEI;SAKAMA MITSUNORI;SATO TOMOHIKO;TERAMOTO SATOSHI;TAKEMURA YASUHIKO;SAKAI SHIGEFUMI |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/203;H01L21/26;H01L21/316;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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