| 摘要 |
실시예에 따른 기판 처리장치는 챔버와, 상기 챔버 내의 상부에 배치된 기판 지지유닛과, 상기 기판 지지유닛과 대향 배치된 증발원;을 포함하고, 상기 기판 지지유닛은 회전축과, 상기 회전축에 연결된 다수의 암과, 상기 다수의 암의 끝단에 연결되는 기판 홀더와, 상기 기판 홀더의 후방에 배치된 디스크와, 상기 기판 홀더의 하부 또는 디스크의 하부를 지지하는 레일부를 포함할 수 있다. 실시예는 기판 홀더를 회전축과는 별도로 회전시키도록 구성함으로써, 박막의 단차 피복성을 향상시킬 수 있다. |
