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L'invention concerne un procédé de formation d'une contrainte dans une couche, comportant :a) l'assemblage, par collage moléculaire, de cette couche (10) à contraindre, avec une structure, ou des moyens, de mise sous contrainte, comportant au moins une couche (10) apte à se déformer dans son plan sous l'effet d'un champ électrique ou magnétique ou d'un flux de photons,b) la mise sous contrainte de ladite couche (10) par modification du champ électrique ou magnétique ou du flux de photons appliqué à la couche apte à se déformer.
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