| 发明名称 |
Laser unit, exposure apparatus for micro-lithiographie and associated method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1548501(A3) |
申请公布日期 |
2005.07.06 |
| 申请号 |
EP20040030471 |
申请日期 |
2004.12.22 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
SUKEGAWA, TAKASHI;TAKAHASHI, KAZUHIRO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01S3/00;H01S3/10;H01S3/106;H01S3/13;H01S3/137;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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