| 发明名称 | 光学记录介质及二吡咯甲烯基－金属螯合物 | ||
| 摘要 | 光学记录介质，在记录层中含有二吡咯甲烯基－金属螯合物，其主要重量损失引发温度为330－500℃；和下列通式所示的二吡咯甲烯基－金属螯合物等：其中R<SUP>1</SUP>－R<SUP>4</SUP>和R<SUP>7</SUP>－R<SUP>11</SUP>各自独立表示氢、卤素、取代或未取代的烷基、烷氧基、芳基或芳氧基；R<SUP>6</SUP>为取代或未取代的烷基，碳原子总数为2－12；R<SUP>12</SUP>为取代或未取代的芳基；X为－CH2－；及M为Cu。 | ||
| 申请公布号 | CN1642752A | 申请公布日期 | 2005.07.20 |
| 申请号 | CN03807342.0 | 申请日期 | 2003.03.27 |
| 申请人 | 三井化学株式会社;山本化成株式会社 | 发明人 | 西本泰三;井上忍;三泽传美;奈良亮介;稻富裕司;村山俊介;小池正士;齐藤靖典;中川真一 |
| 分类号 | B41M5/26;C09B23/04;C07D209/70;C07D491/048;C07D495/04;G11B7/24 | 主分类号 | B41M5/26 |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 1.一种光学记录介质，至少包括记录层和反射层，其位于透明基板上，该基板上还具有导向槽，其中记录层含有至少一种二吡咯甲烯基-金属螯合物，根据热重分析法，其中的初始主要重量损失温度为330℃-500℃。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||