| 摘要 |
본 발명은 티탄산바륨 박막의 제조방법이 제공된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 상온에서 기판의 일면에 티탄산바륨(BaTiO)층을 형성하는 단계, 상기 티탄산바륨(BaTiO)층의 표면 중 적어도 일부에 에칭 마스크(etching mask)를 적층하는 단계, 육불화황(SF)가스, 산소(O)가스 및 아르곤(Ar)가스를 포함하는 에칭 가스(etching gas)의 유도 결합 플라즈마(inductively coupled plasma plasma)를 통해 상기 티탄산바륨(BaTiO)층을 에칭하는 단계 및 에칭된 상기 티탄산바륨(BaTiO)층을 산소 분위기의 가열 장치에서 포스트 어닐링하는 단계를 포함할 수 있다. |
