Deckschicht für eletrophotografische Druckwalzen

摘要

Die Erfindung betrifft eine neue Deckschicht für elektrofotografische Druck-Walzen mit verbesserter Kratzbeständigkeit. Die neue Deckschicht besteht aus 50 bis 75 Gew.-% cycloaliphatischen Epoxiden, 20 bis 60 Gew.-% aminofunktionellen Silica-Nanopartikeln und 0 bis 2 Gew.-% Perfluoralkyltrialkoxysilanen. Die Herstellung der aminofunktionellen Nanopartikel erfolgt vorzugsweise durch Sol/Gel-Technologie aus Aminoalkyltrialkoxysilanen.