发明名称 | 作为含硅光致抗蚀剂的垫层的低折射指数聚合物 | ||
摘要 | 公开了显示高的耐蚀刻性和改进的光学性能的新型垫层组合物。所述垫层组合物包含乙烯基或丙烯酸酯聚合物,如甲基丙烯酸酯聚合物,所述聚合物包含至少一个取代或未取代的萘或萘酚结构部分(包括其混合物)。本发明聚合物的实例包括:通式(I)、(II)、(III)、(IV),其中每个R<SUB>1</SUB>独立地选自有机结构部分或卤素;每个A独立地是单键或有机结构部分;R<SUB>2</SUB>是氢或甲基;每个X、Y和Z是0-7的整数,Y+Z是7或更少。上述有机结构部分可以是选自线性或支化烷基、卤化线性或支化烷基、芳基、卤化芳基、环状烷基、和卤化环状烷基的取代或未取代的烃、和它们的任何组合。所述组合物适合在多层光刻方法(包括三层光刻方法)中用作平面化垫层。 | ||
申请公布号 | CN101080669A | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
申请号 | CN200580043180.0 | 申请日期 | 2005.11.30 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 黄武松;S·伯恩斯;M·克加斯泰 |
分类号 | G03C1/76(2006.01) | 主分类号 | G03C1/76(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王健 |
主权项 | 1.适合在多层光刻方法中用作平面化垫层的组合物,所述组合物包含:乙烯基或丙烯酸酯聚合物,所述聚合物包含至少一个取代或未取代的萘或萘酚结构部分。 | ||
地址 | 美国纽约 |