光分解性剤を用いることによって自己組織化材料を含む層構造を有する基板を形成する方法

摘要

自己組織化材料を含む層構造を有する基板を形成する方法（１００）が供される。当該方法（１００）は、基板（１１０）上に第１材料層を形成する工程、前記第１材料層（１２０）上に放射線感受性材料層を形成する工程、パターンを有する光によって前記放射線感受性材料層（１３０）のイメージングを行う工程、前記放射線感受性材料層（１３０）を架橋反応温度（１４０）以上の温度に加熱する工程、前記のイメージングされた層（１５０）を現像する工程、及び、ブロック共重合体パターンを形成する工程を有する。前記放射線感受性材料層は、（ａ）光分解性架橋剤、（ｂ）光塩基発生剤、又は、（ｃ）光分解性塩基から選ばれる少なくとも１つの感光性成分、及び、架橋可能なポリマーを含む。前記パターンを有する光によるイメージングは、そのままの感光性成分のかなりの部分を有する領域によって取り囲まれる分解した感光性成分のかなりの部分を有する第１領域によって画定されるパターンを供する。