发明名称 Laminated reactor and Method of Producing polycrystalline Silicon using same
摘要 본 발명에 따르면, 상부 표면에 형성된 투입구, 하부 표면에 형성된 배출구 및, 상기 투입구와 상기 배출구 사이에 형성된 반응 공간을 구비한 단위 반응관을 2 개 이상 적층시켜서 구성된 반응기를 포함하고, 상기 투입구 단면의 중심과 상기 배출구 단면의 중심은 평면상에서 보았을 때 원주를 따라서 미리 결정된 간격으로 이격되도록 배치됨으로써 상기 반응 공간은 수직선에 대하여 경사지게 형성되고, 상부에 놓인 단위 반응관의 배출구 단면은 하부에 놓인 다른 단위 반응관의 투입구 단면에 대응되는, 반응 장치가 제공된다.
申请公布号 KR20160134084(A) 申请公布日期 2016.11.23
申请号 KR20150067517 申请日期 2015.05.14
申请人 주식회사 엘지화학 发明人 김유석;김정규;유진형;이정우;장은수
分类号 B01J12/00;B01J19/24;C01B33/021 主分类号 B01J12/00
代理机构 代理人
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