发明名称 半導体ウエハ保護用フィルム及び半導体装置の製造方法
摘要 According to the present invention, there is provided a semiconductor wafer protective film including a substrate layer (A) and an adhesive layer (C) formed on the substrate layer (A) , in which the substrate layer (A) includes polymer, and a solubility parameter of the polymer determined by a Van Krevelen method is equal to or greater than 9.
申请公布号 JP6051302(B2) 申请公布日期 2016.12.27
申请号 JP20150519819 申请日期 2014.05.22
申请人 三井化学東セロ株式会社 发明人 森本 哲光;片岡 真;福本 英樹
分类号 H01L21/301;C09J7/02;C09J133/00;H01L21/304 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人
主权项
地址