发明名称 |
校验光学邻近修正方法 |
摘要 |
一种校验光学邻近修正的方法,包括:提供至少一幅经光学邻近修正后的待曝光图形;对待曝光图形进行分辨率增强和光学邻近修正,经修正后,待曝光图像具有修正边;获取待曝光图形的各修正边的光强对焦距的一阶导数,若待曝光图形的所有修正边的光强对焦距的一阶导数大于临界值,为符合条件,结束校验,若待曝光图形的部分修正边的光强对焦距的一阶导数小于临界值,则对该待曝光图形进行普通校验直至其修正边全部符合要求。本发明通过将修正后的待曝光图形的各个修正边的评估点光强对焦距求一阶导数,首先筛选出符合要求的待曝光图形,避免再对其进行不同条件下的校验步骤,节约了校验光学邻近修正所用的时间。 |
申请公布号 |
CN101458719A |
申请公布日期 |
2009.06.17 |
申请号 |
CN200710094477.0 |
申请日期 |
2007.12.13 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
杨青 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
李 丽 |
主权项 |
1. 一种校验光学邻近修正的方法,其特征在于,包括如下步骤:提供至少一幅经光学邻近修正后的待曝光图形,所述待曝光图形具有修正边;获取待曝光图形的各修正边的光强对焦距的一阶导数;若待曝光图形的所有修正边的光强对焦距的一阶导数大于临界值,则结束校验;若待曝光图形的部分修正边的光强对焦距的一阶导数小于临界值,则对该待曝光图形进行普通校验。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江路18号 |