发明名称 磁性能良好的低硼非晶态合金及其制造方法
摘要 在Fe-Si-B系非晶态合金中,对于B含量在6—10原子%的低硼Fe-Si-B系非晶态合金,将其板厚控制在15—25μm,同时将表面粗糙度Ra<SUB>0.8</SUB>控制在0.8μm以下,可以得到不次于B含量在10原子%以上且偏差较小的优异磁性能。$#!
申请公布号 CN1077149C 申请公布日期 2002.01.02
申请号 CN97104701.4 申请日期 1997.01.31
申请人 川崎制铁株式会社 发明人 松木谦典;小菊史勇;志贺信勇;行本正雄
分类号 C22C45/02 主分类号 C22C45/02
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 吴大建
主权项 1磁性能良好的低硼非晶态合金,它是B含量为6-10原子%的低硼Fe-Si-B系非晶态合金,其板厚为15-25μm,表面粗糙度Ra0.8(在切断值0.8mm下测定的与急冷辊接触面的粗糙度算出平均偏差值)是0.8μm以下而且,将B含量为6-10原子%的Fe-Si-B系非晶态合金熔液,用单辊法急冷凝固、制造板厚为15-25μm的低硼非晶态合金时,熔液的注射压力是30-60Kpa,辊圆周速度为35-50m/s。
地址 日本兵库县