发明名称 | 磁性能良好的低硼非晶态合金及其制造方法 | ||
摘要 | 在Fe-Si-B系非晶态合金中,对于B含量在6—10原子%的低硼Fe-Si-B系非晶态合金,将其板厚控制在15—25μm,同时将表面粗糙度Ra<SUB>0.8</SUB>控制在0.8μm以下,可以得到不次于B含量在10原子%以上且偏差较小的优异磁性能。$#! | ||
申请公布号 | CN1077149C | 申请公布日期 | 2002.01.02 |
申请号 | CN97104701.4 | 申请日期 | 1997.01.31 |
申请人 | 川崎制铁株式会社 | 发明人 | 松木谦典;小菊史勇;志贺信勇;行本正雄 |
分类号 | C22C45/02 | 主分类号 | C22C45/02 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴大建 |
主权项 | 1磁性能良好的低硼非晶态合金,它是B含量为6-10原子%的低硼Fe-Si-B系非晶态合金,其板厚为15-25μm,表面粗糙度Ra0.8(在切断值0.8mm下测定的与急冷辊接触面的粗糙度算出平均偏差值)是0.8μm以下而且,将B含量为6-10原子%的Fe-Si-B系非晶态合金熔液,用单辊法急冷凝固、制造板厚为15-25μm的低硼非晶态合金时,熔液的注射压力是30-60Kpa,辊圆周速度为35-50m/s。 | ||
地址 | 日本兵库县 |