发明名称 具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法
摘要 本发明涉及具有沟渠绝缘的半导体电路装置及其制造方法。根据本发明地一种电路装置,具有一个穿过一个电荷存储层(18)及一个掺杂半导体层(14)的沟渠。这个沟渠同时具有多种不同的作用,包括在相邻的组件之间形成绝缘的作用、将电荷存储层结构化的作用、以及将掺杂半导体层(14)区隔为不同区段的作用。
申请公布号 CN1531098A 申请公布日期 2004.09.22
申请号 CN200410005574.4 申请日期 2004.02.14
申请人 因芬尼昂技术股份公司 发明人 A·格拉茨;K·克诺布洛奇;F·舒勒
分类号 H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/00 主分类号 H01L27/115
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张志醒
主权项 1.一种半导体电路装置(76),具有一个衬底(10),在此衬底(10)上按照给定的顺序依次承载:-第一种导电型的一个掺杂半导体层(14),-一个电绝缘层(16),-一个适于用来储存电荷的导电或电绝缘的电荷存储层(18),这种半导体电路装置至少具有一个沟渠(32),这个沟渠(32)穿过电荷存储层(18)并延伸至掺杂半导体层(14)内。
地址 德国慕尼黑